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Article cité :

Study of electrical properties of thin films of platinum obtained by cathode sputtering in simple gases
Etude des propriétés électriques des couches minces de platine obtenues par pulvérisation cathodique dans des gaz simples

André Féry

J. Phys. Radium, 4 6 (1933) 301-315

DOI: https://doi.org/10.1051/jphysrad:0193300406030100

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Citations de cet article :

Temperature Coefficients of Resistance of Metallic Films in the Temperature Range 25° to 600°C

Richard B. Belser and Walter H. Hicklin
Journal of Applied Physics 30 (3) 313 (1959)
https://doi.org/10.1063/1.1735158

Neuere Arbeiten über die physikalischen Eigenschaften dünner Metallfilme

Herbert Lange
Kolloid-Zeitschrift 78 (2) 231 (1937)
https://doi.org/10.1007/BF01502140

The structure of thin metallic films

G I Finch
Proceedings of the Physical Society 49 (4S) 113 (1937)
https://doi.org/10.1088/0959-5309/49/4S/313