A contribution to the study of thin films of iron and of nickel deposited on Copper substrates at very low temperatures.
Contribution à l'étude de couches minces de fer et de nickel déposées sur support de cuivre à très basse température
J. Phys. Radium, 20 2-3 (1959) 319-322
DOI: 10.1051/jphysrad:01959002002-3031900