Numéro
J. Phys. Radium
Volume 13, Numéro 12, décembre 1952
Page(s) 658 - 660
DOI https://doi.org/10.1051/jphysrad:019520013012065800
J. Phys. Radium 13, 658-660 (1952)
DOI: 10.1051/jphysrad:019520013012065800

L'épitaxie dans les lames polycristallines

O.S. Heavens et L.E. Collins

Université de Reading (G. B.)


Résumé
Étude de l'adhésion de lames minces de Cu, Ag, Au et Al déposées sur des couches minces de chrome sur verre. La structure des lames, observée par diffraction électronique, suggère une croissance épitaxiale. L'adhésion augmente lorsque les distances interatomiques du réseau du métal superficiel sont peu différentes de celles du chrome. C'est ainsi que les distances interatomiques de l'Ag, Au et Al ne diffèrent pas entre elles de plus de 1 pour 100 et l'adhésion de ces couches est nettement meilleure que celle du Cu pour lequel la même distance est d'environ 10 pour 100 plus petite.

PACS
6150 - Crystalline state.
6114 - Electron diffraction and scattering.

Key words
adhesion -- alkali metal halides -- crystal growth -- films