Numéro
J. Phys. Radium
Volume 19, Numéro 3, mars 1958
Page(s) 327 - 334
DOI https://doi.org/10.1051/jphysrad:01958001903032700
J. Phys. Radium 19, 327-334 (1958)
DOI: 10.1051/jphysrad:01958001903032700

Remarque sur l'influence de la dispersion dans les systèmes de couches minces diélectriques

F. Abflès

Institut d'Optique, Paris


Abstract
We consider successively the case of a single thin film and of semi-transparent mirrors for Fabry-Perot interferometers. We show how it is possible to determine the thickness of a thin nonabsorbing film when its reflectivity is a maximum and when its dispersion is taken into account. A discussion concerning the same film, but used in oblique incidence, follows. For the systems of thin alternating nonabsorbing layers, we consider the influence of dispersion on the maximum reflectivity, on the phase-changes, on the variation of the phase-changes with the wavelength and on the width of the reflection region.


Résumé
On envisage successivement le cas d'une seule couche mince et celui des miroirs semi-transparents pour interféromètre de Fabry-Perot. On montre comment on peut déterminer l'épaisseur d'une couche mince non absorbante lorsque le facteur de réflexion de celui-ci est maximum et que l'on tient compte de la dispersion. On discute aussi le cas où la couche est utilisée en incidence oblique. Pour les systèmes de couches minces alternées non-absorbantes, on envisage l'influence de la dispersion sur le facteur de réflexion maximum, sur les déphasages par réflexion, sur la variation des déphasages avec la longueur d'onde et sur l'étendue de la zone de réflexion.

PACS
4279 - Optical elements, devices, and systems.

Key words
light interferometers -- optical films