Sur les interférences de deux impuretés métalliques

Abstract
The perturbations in the electronic density of a metal by two impurity atoms are studied. On a schematic model using one dimensional free electrons scattered by two δ potential wells, the charge oscillations produced by the two impurities are analyzed. They are shown to be the sum of the charge oscillations due to each of the wells scattering independently, plus interferences terms. These corrective terms are of higher order in perturbation than the oscillations due to independent wells.

Résumé
On étudie comment les densités électroniques d'un métal sont perturbées par la présence de deux impuretés. Sur un modèle schématique, électrons libres à une dimension diffusés par deux puits de potentiel δ, on analyse les oscillations de charge produites autour de deux impuretés. On montre qu'elles comprennent des termes d'interférences, en plus des oscillations de charge produites par chacun des puits pris séparément. Ces termes correctifs sont d'un ordre supérieur en perturbation aux oscillations produites par deux puits isolés.