| Numéro |
J. Phys. Radium
Volume 12, Numéro 10, décembre 1951
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| Page(s) | 930 - 941 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphysrad:019510012010093000 | |
J. Phys. Radium 12, 930-941 (1951)
DOI: 10.1051/jphysrad:019510012010093000
Laboratoire de Physique de l'École Normale Supérieure, Paris
7340C - Contact resistance, contact potential.
Key words
Contact potential -- Work functions -- Measuring methods -- Semiconductor materials -- Metals -- Surface structure -- Experimental study
DOI: 10.1051/jphysrad:019510012010093000
L'effet Volta
René BourionLaboratoire de Physique de l'École Normale Supérieure, Paris
Résumé
L'origine des différences de potentiel de contact (effet Volta) est rappelée et les principes des méthodes possibles de mesure sont exposés. Les techniques appliquées dans les mesures récentes sont décrites et les résultats obtenus sur les métaux et les semi-conducteurs sont résumés et discutés en fonction des conditions expérimentales. L'influence de la structure des surfaces, liée à l'anisotropie du travail de sortie électronique des monocristaux, fait l'objet de la dernière partie du Mémoire.
7340C - Contact resistance, contact potential.
Key words
Contact potential -- Work functions -- Measuring methods -- Semiconductor materials -- Metals -- Surface structure -- Experimental study