Numéro |
J. Phys. Radium
Volume 9, Numéro 1, janvier 1928
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Page(s) | 38 - 48 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphysrad:019280090103800 |
DOI: 10.1051/jphysrad:019280090103800
Etude de la variation de la résistivité des couches minces de platine en fonction de leur épaisseur et de l'influence des corps oxygénés sur de semblables resistances
André Féry Résumé
Les projections cathodiques fournissant un moyen commode d'obtenir des couches métalliques minces, nous nous sommes servi de semblables dépôts pour étudier la variation de la résistivité du platine en fonction de l'épaisseur de la projection. Nous établîmes d'abord la relation linéaire a = 63,4 × D liant l'épaisseur a de la couche de platine exprimée en millimicrons (1 mμ = 10^(-7) cm) à sa densité optique D. Par la suite, nous pûmes ainsi déterminer les épaisseurs de nos dépôts en mesurant leur opacité au microphotomètre. La vapeur d'eau ayant une influence prépondérante sur la résistance électrique de ces projections, nous dûmes prendre, pour les construire. les mêmes précautions que celles que l'on prend ordinairement dans la construction des lampes de radiotélégraphie, Nous obtînmes ainsi des résistances qui restèrent stables pendant plus d'un an. De plus, pour les épaisseurs considérées (comprises entre 4,4 mμ et 243 mμ.) la résistivité p des dépôts varie considérablement avec l'épaisseur a suivant la loi numérique log(10^5 ρ) = 5,7 - 0,0156 a, dans laquelle a est mesuré en mμ et ρ en ohms-cm. Il semble que les dépôts reprennent la résistivité du métal à partir d'une épaisseur voisine de 366 mμ. Nous étudiâmes ensuite l'influence de la vapeur d'eau : une adsorption de vapeur d'eau par la projection de Pt augmente considérablement la résistance de cette couche. Nous comparâmes alors l'action de vapeurs de corps oxygénés (SO², CH³OH) analogues au point de vue électrique à l'eau (grand pouvoir inducteur spécifique, dipôle de grand moment électrique), sur des couches de même épaisseur (5 mμ,) et de même résistance (7 mégohms). Nous nous aperçûmes que l'adsorption de ces vapeurs avait la même influence que celle de la vapeur d'eau, mais que les accroissements étaient inégaux. Les valeurs maxima atteintes se rangeaient dans l'ordre des pouvoirs inducteurs spécifiques des vapeurs à la température considérée. Deux hypothèses pouvaient alors être admises pour interpréter ces résultats La première consistait à admettre que le dépôt n'était pas homogène, continu et que les particules étaient séparées par des fissures disposées arbitrairement. Nous n'aurions pas eu, dans ce cas, des résultats comparables et l'action des vapeurs aurait été inexplicable. La deuxième consistait à supposer que, pour de faibles épaisseurs (comprises entre 11 et 600 diamètres atomiques, le dépôt n'a plus la même structure interne que le métal compact. Un effet de surface, insensible pour des épaisseurs notables, devient apparent lorsque l'épaisseur se rapproche des dimensions réticulaires du réseau cristallin du métal. Enfin. la forme exponentielle de la loi montre que l'action déformatrice, dans les limites d'épaisseurs étudiées ici, n'est pas localisée dans deux couches d'épaisseur constante, laissant entre elles un métal d'épaisseur variable, ayant les propriétés du métal compact, mais que, même pour une épaisseur de 600 atomes, cette action déformatrice s'exerce jusqu'au centre de la couche.
7350 - Electronic transport phenomena in thin films.
Key words
electrical conductivity -- crystal properties -- molecular physics, matter and ether