Numéro |
J. Phys. Radium
Volume 6, Numéro 8, août 1945
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Page(s) | 227 - 232 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphysrad:0194500608022700 |
J. Phys. Radium 6, 227-232 (1945)
DOI: 10.1051/jphysrad:0194500608022700
Laboratoire de Travaux pratiques de physique du P.C.B., Paris
7860F - Electroluminescence.
Key words
Electroluminescence -- Brightness distribution
DOI: 10.1051/jphysrad:0194500608022700
Analyse des ondes de brillance en électrophotoluminescence
G. Destriau et J. MattlerLaboratoire de Travaux pratiques de physique du P.C.B., Paris
Résumé
Les auteurs ont étudié la variation de la brillance durant une période complète d'évolution du champ excitateur (ondes de brillance); ces courbes sont décalées en avant sur l'onde de champ, et d'autant plus que le champ maximum est élevé, ce qui correspond à un accroissement de conductibilité des microcristaux. Pour des mélanges d'oxyde et de sulfure de zinc à forte teneur en cuivre, la pellicule résiduelle de sulfure de cuivre forme partiellement écran électrique et le décalage en avant des ondes de brillance s'accroît avec la teneur en cuivre. Les ondes de brillance ont une allure compliquée mettant en relief, surtout pour certains produits, l'influence de la vitesse de variation du champ sur l'excitation.
7860F - Electroluminescence.
Key words
Electroluminescence -- Brightness distribution