Numéro
J. Phys. Radium
Volume 11, Numéro 7, juillet 1950
Page(s) 373 - 374
DOI https://doi.org/10.1051/jphysrad:01950001107037300
J. Phys. Radium 11, 373-374 (1950)
DOI: 10.1051/jphysrad:01950001107037300

Interferometric evaluation of thicknesses of thin films

S. Tolansky

University of London, Royal Holloway College, Egham, Surrey


Résumé
Etude d'une méthode d'évaluation de l'épaisseur d'une couche mince d'argent couvrant partiellement une surface de verre, par dépôt d'une couche plus épaisse de métal et détermination interférométrique de la marche ainsi formée. On montre que l'épaisseur apparente obtenue dépend du métal utilisé pour le second dépôt. Ag sur Ag peut donner un nombre 25 pour 100 plus faible que Cr sur Ag. On trouve un effet de bord anormal quand une couche intermedaire de cryolithe est employée entre les deux couches métalliques.

PACS
0760L - Interferometers.
4279W - Optical coatings.
0630B - Spatial dimensions (e.g., position, lengths, volume, angles, and displacements).

Key words
light interferometry -- optical films -- silver -- thickness measurement