Numéro |
J. Phys. Radium
Volume 11, Numéro 7, juillet 1950
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Page(s) | 355 - 360 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphysrad:01950001107035500 |
J. Phys. Radium 11, 355-360 (1950)
DOI: 10.1051/jphysrad:01950001107035500
8115E - Vacuum deposition.
6855 - Thin film structure and morphology.
Key words
adhesion -- aluminium
DOI: 10.1051/jphysrad:01950001107035500
Some factors influencing the adhesion of films produced by vacuum evaporation
O.S. Heavens Résumé
De nombreux facteurs interviennent dans la préparation des couches par évaporation, parmi lesquels on peut citer les suivants : le vide réalisé; le liquide utilisé dans les pompes et les disposilifs employés comme pièges; la méthode de nettoyage des surfaces traitées; la température des sources et, par suite, l'intensité du jet moléculaire. Un travail est en cours pour déterminer la part jouée par quelques-uns de ces facteurs en contrôlant la dureté et l'adhésion des couches évaporées dans le vide. L'auteur indique quelques résultats préliminaires obtenus avec l'aluminium. Il étudie également les propriétés des couches d'aluminium déposées sur un support de chrome évaporé.
8115E - Vacuum deposition.
6855 - Thin film structure and morphology.
Key words
adhesion -- aluminium